■ X線マスクの作製

電子ビームまたはレーザーリソグラフィによる高精度のX線マスクを作製します。

■ レジストのX線リソグラフィ (Lithographie)
基板上のフォトレジストにX線マスクの構造を転写します。
放射光の高品質なX線によって，高アスペクト比，滑らかな側壁，自由な横方向形状を持つレジスト構造が実現します。

■ 電鋳 (Galvanoformung)
X線リソグラフィによって形成された微細構造を持つレジストに，電鋳を施します。これにより，高アスペクト比の金属構造体が実現できます。
下記に掲載している金属の微細構造はここまでの工程で作製されます。

■ ポリマーの成型 (Abformung)
電鋳で作製した金型を用い，ホットエンボスや射出成型によって，ポリマー製の微細構造を複製します。

■ X線回折格子 (X-ray gratings for Talbot interferometry)
X線の吸収像，微分位想像，暗視野像が撮像できるタルボ干渉計，タルボ･ロー干渉計用の回折格子。高アスペクト比の吸収格子，短周期の位相格子，吸収格子を実現。
サイト内リンク: X線回折格子

■ X線レンズ (Compound refractive lens, CRL)
SPring-8を始めとした放射光施設で多くの使用実績がある，単色X線を集光する複合屈折レンズ(CRL)。
サイト内リンク: X線レンズ

■ 微細貫通孔 (X線アパーチャ)
(a) マルチホール例 / X線マルチコリメータ
厚さ80 µmの金のメンブレン上に直径3，4，5 µmの高アスペクト円形貫通孔を規則的に多数配列。X線マルチコリメータとして使用実績あり。

(b) シングルホール例 / X線アパーチャ
厚さ200 µmの金のメンブレンの中心に，直径5 µmの高アスペクト円形貫通孔を一つ形成。放射光施設のX線アパーチャとして使用実績あり。

■ マイクロギア1
製法: X線リソグラフィと電鋳を用いた精密パーツ
用途: 機械部品(高級時計のギア)
スケールバー(黄線): 1 mm

■ マイクロギア2

■ Ni電鋳と微細貫通孔

用途: ハイパースペクトルカメラ向けのNiアパーチャ
形状: 2.5 µmのギャップ，深さ180 µmの貫通孔
効果: キーストーン，スマイル効果(光学系の収差，ミスアラインメントから生じる歪み)の大幅な削減

参考: A Fridman et al. "Measurements of the performance of the light mixing chambers in the mixel camera", Optics Express 23(10):13659, 2015

■ X線テストストラクチャ

形状: 厚さ30 µmの金のメンブレンに5 µm ～ 1,000 µmの貫通孔
用途: 放射光のビームサイズ測定(ナイフエッジ測定)